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장비 상세조회

집속이온빔
Focused Ion Beam

분석장비 상세내역
영문약어 FIB
장비명(한글) 집속이온빔 
기기코드 SE106
연구장비표준분류
기기상태  
SE106.jpg

부서 및 장비담당자

부서 및 장비담당자
지역  
주소  
보유센터 및 부서  
장비담당자 양민호  정아름  
전화 02-6943-4170, 02-6943-4112 
팩스 02-6943-4108 
메일 yangmino@kbsi.re.kr  

Spec 및 활용분야

Spec 및 활용분야
원리 및 특징
    - 집속이온빔(FIB)은 가속된 Ga+ 이온을 집속하여 모재의 특정 부위를 원자 클러스터 크기로 깍아내는 장비임
구성 및 성능
    ○ Ion-beam 저가속전압 및 분해능
    - 가용 가속 전압 : 500eV 이하
    - 가속 전압별 분해능 : 3nm 이하
    - Ion beam current : 65nA 이상
    ○ Electron beam 가속전압 및 분해능
    - 가속 전압 범위 : 200eV ~ 30KeV
    - 분해능 : 1KeV에서 1.6nm 이하
    - electron beam current : 40nA 이상
    - Ion-beam 작업시 SEM 동시 관찰 가능
    - 에너지분산형 X선분광기 (EDS)
    - Gas Injection System (Pt)
활용분야
    - 이차이온 영상
    - 투과전자현미경 시료 제작
    - Device 불량 분석
    - 나노구조물
    - 나노패터닝

장비 공지사항


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